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產(chǎn)品展示/ Product display

  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)的線速度達(dá)21M/S,由3級(jí)可調(diào)間隙的錐形定子和4級(jí)高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無(wú)級(jí)調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級(jí)上的凹槽一級(jí)比一級(jí)精細(xì),深度,方向的不同增加了流體的揣流。

    更新時(shí)間

    2024-09-05

    廠商性質(zhì)

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    1147

  • GMD2000納米氧化鎂均質(zhì)分散機(jī)

    納米氧化鎂均質(zhì)分散機(jī)可在實(shí)驗(yàn)室模擬在線工況進(jìn)行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無(wú)分散死角等特點(diǎn)。

    更新時(shí)間

    2024-09-05

    廠商性質(zhì)

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    1082

  • GMD2000蛋白質(zhì)高速分散機(jī)

    蛋白質(zhì)高速分散機(jī)可在實(shí)驗(yàn)室高速馬達(dá),可選配不銹鋼帶夾套工作腔或玻璃工作腔。*的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),產(chǎn)生*的剪切力,迅速減小液滴尺寸,處理物料更精細(xì)、更均勻。

    更新時(shí)間

    2024-09-05

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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)機(jī)配合橡膠抗氧劑的生產(chǎn):將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無(wú)大的團(tuán)聚顆粒,將配好的液體倒入分散機(jī)中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

    更新時(shí)間

    2024-09-05

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  • GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)

    磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)采用*設(shè)計(jì),便于清洗,對(duì)表面進(jìn)行高質(zhì)量處理,防止其對(duì)食品醫(yī)藥產(chǎn)生不利影響,該設(shè)備還符合CIP和SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn),能更好的實(shí)現(xiàn)在線清洗,提高工作效率,確保產(chǎn)品安全。

    更新時(shí)間

    2025-04-07

    廠商性質(zhì)

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、均質(zhì)和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    更新時(shí)間

    2024-09-05

    廠商性質(zhì)

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    1195

  • GMD2000醇類硅溶膠高剪切研磨分散機(jī)

    醇類硅溶膠高剪切研磨分散機(jī)可以處理量大,運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*

    更新時(shí)間

    2024-09-04

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    896

  • GMD2000石墨烯片層機(jī)械剝離分散機(jī)

    石墨烯片層機(jī)械剝離分散機(jī)可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

    更新時(shí)間

    2024-09-04

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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